欢迎光临湖南盛恩自动化设备有限公司官网

全国咨询热线:

0731-85485919

热门关键词: 压力变送器 液位变送器 温度变送器 数显仪表 电磁阀

新闻资讯

行业新闻

您所在的位置:首页 > 新闻中心 > 行业新闻

压力传感器的四个发展阶段

时间:2010-11-2 8:38:08 来源:盛恩自动化

现代压力传感器以半导体传感器的发明为标志,而半导体传感器的发展可以分为四个阶段:

(1) 发明阶段(1945 - 1960 ) :这个阶段主要是以1947 年双极性晶体管的发明为标志。此后,半导体材料的这一特性得到较广泛应用。史密斯(C.S. Smith) 1945 发现了硅与锗的压阻效应,即当有外力作用于半导体材料时,其电阻将明显发生变化。依据此原理制成的压力传感器是把应变电阻片粘在金属薄膜上,即将力信号转化为电信号进行测量。此阶段最小尺寸大约为1cm

(2) 技术发展阶段(1960 - 1970 ) :随着硅扩散技术的发展,技术人员在硅的(001) (110) 晶面选择合适的晶向直接把应变电阻扩散在晶面上,然后在背面加工成凹形,形成较薄的硅弹性膜片,称为硅杯。这种形式的硅杯传感器具有体积小、重量轻、灵敏度高、稳定性好、成本低、便于集成化的优点,实现了金属- 硅共晶体,为商业化发展提供了可能。

(3) 商业化集成加工阶段(1970 - 1980 ) :在硅杯扩散理论的基础上应用了硅的各向异性的腐蚀技术,扩散硅传感器其加工工艺以硅的各项异性腐蚀技术为主,发展成为可以自动控制硅膜厚度的硅各向异性加工技术,主要有V 形槽法、浓硼自动中止法、阳极氧化法自动中止法和微机控制自动中止法。由于可以在多个表面同时进行腐蚀,数千个硅压力膜可以同时生产,实现了集成化的工厂加工模式,成本进一步降低。

(4) 微机械加工阶段(1980 - ) :上世纪末出现的纳米技术,使得微机械加工工艺成为可能。通过微机械加工工艺可以由计算机控制加工出结构型的压力传感器,其线度可以控制在微米级范围内。利用这一技术可以加工、蚀刻微米级的沟、条、膜,使得压力传感器进入了微米阶段。

温馨提示: 盛恩自动化官网http://www.hnsn.com 欢迎转载,转载时请保留地址

盛恩自动化设备公司以工业自动化为主攻方向.主营传感器产品有投入式液位变送器, 油混水信号器, 智能压力变送控制器,压力开关,自保持球阀,双向示流信号器:0731-82614729

推荐阅读:

传感器及仪器仪表领域的三大目标与问题

电磁流量计工业上的应用及优缺点

传感器芯片国产化,将有利物联网产业发展

我国自动化技术的发展趋势

我国仪器仪表行业市场前景分析

-- 盛恩传感器

相关新闻:

上一篇: 电磁流量计工业上的应用及优缺点

下一篇:液位计的测量方式及各自的特点